CVD sic coated wafer tøndeholder

Metal organisk kemisk dampaflejring (MOCVD) er i øjeblikket den hotteste epitaksiale vækstteknologi, som er vidt brugt til fremstilling af halvlederlasere og LED'er, især GAN -epitaksy. Epitaxy henviser til væksten af ​​en anden enkelt krystalfilm på et krystalsubstrat. Epitaxy -teknologi kan sikre, at den nyligt voksede krystalfilm er strukturelt på linje med det underliggende krystalsubstrat. Denne teknologi tillader vækst af film med specifikke egenskaber på substratet, hvilket er vigtigt for fremstilling af højpræstation af halvlederenheder.

Wafer Barrel Holder er en nøglekomponent i epitaksial vækstovn. CVD Sic Coating Wafer Holder er vidt brugt i forskellige CVD -epitaksiale vækstovne, især MOCVD -epitaksiale vækstovne.

Funktioner og Features af CVD Sic Coated Wafer Barrel Holder

● Bær- og opvarmningssubstrater: CVD SIC Coated Barrel Sceptor bruges til at transportere underlag og tilvejebringe nødvendig opvarmning under MOCVD -processen. CVD Sic Coated Wafer Barrel Holder er sammensat af grafit med høj renhed og SIC-belægning og har fremragende ydelse.

● ensartethed: Under MOCVD -processen roterer grafit tøndeholderen kontinuerligt for at opnå ensartet vækst af det epitaksiale lag.

● Termisk stabilitet og termisk ensartethed: SIC -belægningen af ​​den SIC -coatede tønde -følger har fremragende termisk stabilitet og termisk ensartethed og sikrer derved kvaliteten af ​​det epitaksiale lag.

● Undgå forurening: CVD -sic coated wafer tøndeholder har en fremragende stabilitet, så den ikke producerer forurenende stoffer, der falder af under drift.

● Ultra-lang levetid: På grund af SIC -belægningen coatede CVD SICARREL -følgeren har stadig tilstrækkelig holdbarhed i den høje temperatur og den korrosive gasmiljø i MOCVD.

Skematisk af tønde CVD -reaktoren

Det største træk ved Vetek Semiconductor's CVD Sic Coated Wafer Barrel Holder

● Den højeste grad af tilpasning: Materialesammensætningen af ​​grafitsubstratet, materialesammensætningen og tykkelsen af ​​SIC -belægningen og strukturen af ​​skiverholderen kan alle tilpasses i henhold til kundebehov.

● At være foran andre leverandører: Vetek Semiconductors SIC Coated Graphite Barrel Sceptor for EPI kan også tilpasses i henhold til kundebehov. På den indre væg kan vi fremstille komplekse mønstre til at imødekomme kundebehov.

Siden starten har Vetek Semiconductor været forpligtet til den kontinuerlige udforskning af SIC -belægningsteknologi. I dag har Vetek Semiconductor branchens førende SIC -belægningsproduktstyrke. Vetek Semiconductor ser frem til at blive din partner i CVD Sic Coated Wafer Barrel Holder Products.

SEM -data fra CVD Sic Coating Film Krystalstruktur

Grundlæggende fysiske egenskaber ved CVD SIC -belægning