Siliciumnitrid

1. Fremragende kemisk stabilitet

Siliciumnitridkeramik har fremragende kemisk stabilitet og kan modstå en række stærke syrer, alkalier og ætsende gasser. I halvlederfremstillingsprocessen er ofte nødt til at håndtere ætsende kemikalier, siliciumnitridkeramik kan give langsigtet stabil ydelsesgaranti.

2. Fremragende mekaniske egenskaber

Siliciumnitridkeramik har høj hårdhed, fremragende trykstyrke og slidstyrke, der er i stand til at modstå mekanisk stress og overfladeslitage, ikke let at deformation eller sprænge. Denne mekaniske egenskab gør den meget velegnet som et materiale til strukturelle og procesdele i halvlederudstyr.

3. høj temperatur stabilitet

Keramik i siliciumnitrid kan opretholde stabilitet i miljøer med høj temperatur, ikke let at blødgøre eller smelte, og kan modstå høj temperaturbehandling og håndtering i halvlederproduktionsprocessen. Dette gør det muligt at bruge det til fremstilling af nøglekomponenter med høj temperaturprocesudstyr, såsom griber, reaktionskammerkomponenter og så videre.

4. Fremragende isolerende egenskaber

Isolerende egenskaber er kritiske i fremstilling af halvlederenhed. Siliciumnitridkeramik har gode isolerende egenskaber, som effektivt kan isolere og beskytte kredsløbskomponenter mod den aktuelle lækage eller elektromagnetisk interferens, hvilket hjælper med at forbedre enhedens stabilitet og pålidelighed.

5. Termisk ledningsevne og termisk ledningsevne

Siliciumnitridkeramik har en høj termisk ledningsevne, kan effektivt udføre og sprede den varme, der genereres af enheden, hvilket hjælper med at opretholde temperaturstabiliteten af ​​enheden i driftsprocessen. Dette er kritisk for den høje ydeevne af halvlederenheder.

1. Elektrostatiske chucks og ætsningskammerkomponenter

Siliciumnitridkeramik bruges ofte som materialer til elektrostatiske chucks og ætsningskammerkomponenter i halvlederfremstilling på grund af deres fremragende kemiske stabilitet og høje temperaturresistens. Elektrostatiske chucks bruges til at fastgøre og stabilisere skiver eller substrater, mens ætsning af kammerkomponenter bruges til at modstå ætsende gasser og miljøer med høj temperatur.

2. gasfordelingsplader og reflektorer

Siliciumnitridkeramik bruges også til fremstilling af halvlederudstyr i gasfordelingspladerne og reflektorer. Gasfordelingsplader bruges til ensartet at fordele reaktive eller beskyttende gasser i reaktionskammeret, mens reflektorer bruges til at optimere fordelingen og reflektionen af ​​lys i reaktionskammeret for at forbedre reaktionseffektiviteten og ensartetheden.

3. indehavere og termiske komponenter

Siliciumnitridkeramik bruges ofte som indehavere og termiske styringskomponenter i produktionsudstyr til halvleder. Disse komponenter skal have god mekanisk styrke, slidstyrke og termisk ledningsevne for at sikre stabil udstyrsdrift og enhedsbehandlingsnøjagtighed.

4. Kemisk mekanisk polering (CMP) puder

Siliciumnitrid -keramik er vidt brugt som et PAD -materiale i den kemiske mekaniske polering (CMP) -proces. Det har fremragende fladhed og slidbestandighed og kan give stabil støtte under poleringsprocessen for at sikre fladheden og præcisionen af ​​halvlederskiveoverfladen.