Hjem
Om os
Om virksomheden
FAQ
Produkter
Tantalcarbid belægning
SiC Single Crystal Growth Process Reservedele
SiC epitaksiproces
UV LED-modtager
Siliciumcarbid belægning
Solid siliciumcarbid
Silicium epitaksi
Siliciumcarbid epitaksi
MOCVD teknologi
RTA/RTP-proces
ICP/PSS ætsningsproces
Anden proces
ALD
Speciel grafit
Pyrolytisk kulstofbelægning
Glasagtig kulstofbelægning
Porøs grafit
Isotropisk grafit
Silikoniseret grafit
Grafitark med høj renhed
Kulfiber
C/C komposit
Stiv filt
Blød filt
Siliciumcarbid keramik
SiC-pulver med høj renhed
Ovn til oxidation og diffusion
Anden halvlederkeramik
Halvleder kvarts
Aluminiumoxidkeramik
Siliciumnitrid
Porøs SiC
Wafer
Overfladebehandlingsteknologi
Teknisk Service
Nyheder
Virksomhedsnyheder
Industri -nyheder
Hent
Hent
Send forespørgsel
Kontakt os
English
Español
Português
русский
Français
日本語
Deutsch
tiếng Việt
Italiano
Nederlands
ภาษาไทย
Polski
한국어
Svenska
magyar
Malay
বাংলা ভাষার
Dansk
Suomi
हिन्दी
Pilipino
Türkçe
Gaeilge
العربية
Indonesia
Norsk
تمل
český
ελληνικά
український
Javanese
فارسی
தமிழ்
తెలుగు
नेपाली
Burmese
български
ລາວ
Latine
Қазақша
Euskal
Azərbaycan
Slovenský jazyk
Македонски
Lietuvos
Eesti Keel
Română
Slovenski
मराठी
Srpski језик
Webmenu
Hjem
Om os
Om virksomheden
FAQ
Produkter
Tantalcarbid belægning
SiC Single Crystal Growth Process Reservedele
SiC epitaksiproces
UV LED-modtager
Siliciumcarbid belægning
Solid siliciumcarbid
Silicium epitaksi
Siliciumcarbid epitaksi
MOCVD teknologi
RTA/RTP-proces
ICP/PSS ætsningsproces
Anden proces
ALD
Speciel grafit
Pyrolytisk kulstofbelægning
Glasagtig kulstofbelægning
Porøs grafit
Isotropisk grafit
Silikoniseret grafit
Grafitark med høj renhed
Kulfiber
C/C komposit
Stiv filt
Blød filt
Siliciumcarbid keramik
SiC-pulver med høj renhed
Ovn til oxidation og diffusion
Anden halvlederkeramik
Halvleder kvarts
Aluminiumoxidkeramik
Siliciumnitrid
Porøs SiC
Wafer
Overfladebehandlingsteknologi
Teknisk Service
Nyheder
Virksomhedsnyheder
Industri -nyheder
Hent
Hent
Send forespørgsel
Kontakt os
Produktsøgning
Sprog
English
Español
Português
русский
Français
日本語
Deutsch
tiếng Việt
Italiano
Nederlands
ภาษาไทย
Polski
한국어
Svenska
magyar
Malay
বাংলা ভাষার
Dansk
Suomi
हिन्दी
Pilipino
Türkçe
Gaeilge
العربية
Indonesia
Norsk
تمل
český
ελληνικά
український
Javanese
فارسی
தமிழ்
తెలుగు
नेपाली
Burmese
български
ລາວ
Latine
Қазақша
Euskal
Azərbaycan
Slovenský jazyk
Македонски
Lietuvos
Eesti Keel
Română
Slovenski
मराठी
Srpski језик
Afslut menu
Hjem
Hent
Hent
Flere detaljer om produktparametre, mere omfattende teknisk vejledning, se venligst vores PDF, eller kontakt os direkte.
Hent
VeTek Semiconductor Sikkerheds-, Sundheds- og Miljøpolitik
Vetek Semiconductor
SiC-pulver med høj renhed
«
1
»
Nyhedsanbefalinger
Hvad er porøs grafit med høj renhed? - Vetek
Se mere >>
En komplet forklaring af chipfremstillingsprocessen (1/2): fra wafer til pakning og test
Se mere >>
De 3 bedste leverandører af kvartsmaterialer i verden
Se mere >>
Anvendelse af tac-coatede grafitdele i enkeltkrystallovne
Se mere >>
Rul op! To store producenter er ved at masseproducere 8-tommer siliciumcarbid
Se mere >>
Kinesiske virksomheder udvikler angiveligt 5nm-chips med Broadcom!
Se mere >>
WhatsApp
Tina
QQ
TradeManager
Skype
E-Mail
VeTek
VKontakte
WeChat
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies.
Privacy Policy
Reject
Accept