Produkter

Teknisk Service

1.Oprensning og kortlægninger

VeTek Semiconductors tekniske tjenester dækker oprensning og kortlægning af forskellige halvledermaterialer med det formål at give kunderne højkvalitets halvledermaterialer til en række forskellige anvendelser. Vi har avanceret renseteknologi og udstyr til effektivt at fjerne urenheder og derved øge renheden af ​​halvledermaterialer. Vores rensningsproces er omhyggeligt designet til at omfatte flere trin og streng kvalitetskontrol for at sikre den fremragende renhed og stabilitet af de leverede materialer.

Samtidig er vi forpligtet til at give vores kunder nøjagtige og pålidelige korttjenester. Vi har avanceret testudstyr og -instrumenter, og er afhængige af et erfarent professionelt team, der kan udføre omfattende måling og analyse af egenskaberne ved halvledermaterialer. Vores kortlægningsarbejde omfatter test af elektriske egenskaber, sammensætning, renhed, fysiske egenskaber mv., samt dybdegående undersøgelser af materialestruktur og sammensætning. Gennem kortlægning kan vi indhente detaljerede data og informationer for at give kunderne en nøjagtig vurdering af materialeegenskaber og relevante anbefalinger.

GDMS GDMS D-SIMS D-SIMS Coordinate measuring machine Koordinat målemaskine

2. Maskiner kapacitet

VeTek Semiconductor har førende bearbejdningsevner og erfaring for grafit, siliciumcarbid og andre halvlederprodukter, som kan imødekomme kundernes høje præcision og høje renhed.

Høj kvalitet og andre forarbejdningskrav. De værktøjer, vi bruger, skæreprocessen og materialevalget er også nøje optimeret for at opnå mikrometerstørrelseskontrol og kontrol af produktet

Høj overfladekvalitet. Vi er opmærksomme på kvalitetskontrol og procesoptimering i forarbejdningsprocessen, og udfører realtidsovervågning og kontrol af nøgleparametre i forarbejdningsprocessen for at sikre kvaliteten af ​​produkterne

Konsistens og stabilitet. Vi implementerer også et strengt kvalitetsstyringssystem for at sikre, at produkter behandles i overensstemmelse med kundernes krav og industristandarder, og vi udfører omfattende kvalitetskontrol.

Vi vil løbende investere i udstyrsforbedring og teknologisk innovation for at imødekomme vores kunders voksende behov og give dem overlegne løsninger og support.

3. Løsning af termisk feltmodifikation

Med hensyn til jordisk feltdesign og transformation kan vores virksomhed færdiggøre design og batchforsyning til Czochra enkeltkrystal, støbning af polykrystal, gallilumarsenid, zinkselenid, safir, siliciumcarbid og andet forskelligt industriudstyr. Samtidig har vi til den mekaniske termiske beregning af forskellige strukturer, komponenter og atmosfærer under forskellige højtemperaturmiljøer også professionelle modellerings- og simuleringsberegningsevner, som kan give kunderne professionelle designoptimeringsprogrammer og forslag.

Technical Service


Nøglefunktioner

  • Materialeoprensning og kortlægning: flertrinsoprensning og omfattende karakterisering (elektrisk, sammensætning, renhed, struktur) for højkvalitets halvledermaterialer.
  • Præcisionsbearbejdning: førende kapacitet til grafit, siliciumcarbid og andre halvlederdele med dimensionskontrol på mikrometerniveau og høj overfladekvalitet.
  • Termisk feltdesign og modifikation: design og levering til Czochralski, støbning, GaAs, ZnSe, safir, SiC og andre systemer, plus termisk simulering og optimering.
  • Rengøring af CVD SiC-belagte dele: specialiseret rengøring af MOCVD-susceptorer og grafitkomponenter uden tab af belægningstykkelse og ingen metalrester.
  • Udstyrsløsninger: modstandsopvarmning i stor størrelse SiC krystalvækstovne, der understøtter 6-12 tommer krystalvækst med præcis processtyring.


Ansøgninger

For at imødekomme de forskellige behov hos kunder med halvledermaterialer og udstyr tilbyder VeTek målrettede tekniske tjenester. Følgende tabel klassificerer dem efter større serviceområder:

Serviceområde Typiske tjenester / produkter Ansøgningsbeskrivelse
Materialerensning og kortlægning Oprensningsprocesser; elektrisk / sammensætning / renhed / struktur test og analyse Fjern urenheder og karakteriser halvledermaterialer fuldt ud for at sikre høj renhed, stabilitet og nøjagtig egenskabsvurdering til forskellige applikationer.
Præcisionsbearbejdning Bearbejdning af grafit, siliciumcarbid og andre halvlederprodukter Højpræcisions-bearbejdning med høj renhed med kontrol på mikrometerniveau og høj overfladekvalitet til grafit- og SiC-komponenter, der anvendes i halvlederudstyr.
Termisk feltdesign og modifikation Termisk feltdesign og batchforsyning; termisk simulering og optimering Design og levering af termiske felter til Czochralski, støbning, GaAs, ZnSe, safir, SiC og andre systemer; mekanisk-termisk beregning og designoptimering under høje temperaturforhold.
Rengøring af dele (CVD SiC) CVD SiC Coating Grafit dele rengøringsservice Specialiseret rengøring af Aixtron/Veeco MOCVD-susceptorer og grafitdele i GaN/AlN/AlGaN epi; fjerner memory-effekt, beskytter CVD SiC-belægning (nul tykkelsestab, ingen metalrester).
Krystalvækstudstyr Stor størrelse modstandsopvarmning SiC krystalvækstovn PVT-baserede modstandsopvarmningsovne til stabil 6-12 tommer SiC krystalvækst; præcis kontrol af temperatur, tryk og effekt for at reducere defekter og understøtte industriel produktion.

For relaterede materialer og procesløsninger henvises tilSiliciumcarbid belægning, Speciel grafitogSiliciumcarbid epitaksisider


Som en professionel teknisk serviceproducent og leverandør i Kina har vi vores egen fabrik. Uanset om du har brug for skræddersyede tjenester for at imødekomme de specifikke behov i din region eller ønsker at købe avanceret og holdbar teknisk service lavet i Kina, kan duefterlad os en besked.

View as  
 
CVD SiC Coating Grafit dele rengøringsservice

CVD SiC Coating Grafit dele rengøringsservice

VETEK Professional Cleaning Service for CVD SiC Coated Graphite Parts er en specialiseret teknisk service designet til Aixtron / Veeco MOCVD udstyrssusceptorer og grafitkomponenter, der bruges i GaN / AlN / AlGaN epitaksiale processer. Vores proprietære renseproces eliminerer overfladehukommelseseffekten grundigt, genopretter en stabil gasstrøm i reaktoren og beskytter strengt 100 µm CVD SiC-belægningen med absolut nul tykkelsestab og ingen metalrester.
Stor størrelse modstandsopvarmning SiC krystal vækstovn

Stor størrelse modstandsopvarmning SiC krystal vækstovn

Siliciumcarbid krystalvækst er en kerneproces i fremstillingen af ​​højtydende halvlederenheder. Stabiliteten, præcisionen og kompatibiliteten af ​​krystalvækstudstyr bestemmer direkte kvaliteten og udbyttet af siliciumcarbidbarrer. Baseret på egenskaberne ved Physical Vapor Transport (PVT) teknologi har Veteksi udviklet en modstandsvarmeovn til siliciumcarbid krystalvækst, hvilket muliggør stabil vækst af 6-tommer, 8-tommer og 12-tommer siliciumcarbidkrystaller med fuld kompatibilitet med ledende, semi-isolerende materialesystemer og N-materialesystemer. Gennem præcis kontrol af temperatur, tryk og effekt reducerer den effektivt krystaldefekter såsom EPD (Etch Pit Density) og BPD (Basal Plane Dislocation), mens den byder på lavt energiforbrug og et kompakt design, der opfylder de høje standarder for industriel storskalaproduktion.
Som en professionel Teknisk Service producent og leverandør i Kina har vi vores egen fabrik. Uanset om du har brug for skræddersyede tjenester til at opfylde de specifikke behov i din region eller ønsker at købe avanceret og holdbar Teknisk Service fremstillet i Kina, kan du efterlade os en besked.
X
Vi bruger cookies til at tilbyde dig en bedre browsingoplevelse, analysere trafik på webstedet og tilpasse indhold. Ved at bruge denne side accepterer du vores brug af cookies. Privatlivspolitik
AfviseAcceptere