CVD TAC belægning

CVD TAC -belægning (kemisk dampaflejring tantalcarbidbelægning) er et belægningsprodukt, der hovedsageligt er sammensat af tantalcarbid (TAC). TAC -belægning har ekstremt høj hårdhed, slidstyrke og høj temperaturresistens, hvilket gør det til et ideelt valg til beskyttelse af nøgleudstyrskomponenter og forbedring af procesens pålidelighed. Det er et uundværligt materiale i behandling af halvleder.

CVD TaC Coating-produkter bruges normalt i reaktionskamre, waferbærere og ætseudstyr og spiller følgende nøgleroller i dem.

CVD TaC-belægning bruges ofte til indvendige komponenter i reaktionskamre såsom substrater, vægpaneler og varmeelementer. Kombineret med dens fremragende højtemperaturbestandighed kan den effektivt modstå erosion af høje temperaturer, ætsende gasser og plasma og dermed effektivt forlænge udstyrets levetid og sikre stabiliteten af ​​processen og renheden af ​​produktproduktionen.

Derudover har TaC-belagte waferbærere (såsom kvartsbåde, armaturer osv.) også fremragende varmebestandighed og kemisk korrosionsbestandighed. Waferbæreren kan give pålidelig støtte til waferen ved høje temperaturer, forhindre waferforurening og deformation og dermed forbedre det samlede spånudbytte.

Ydermere er VeTek Semiconductors TaC-belægning også meget brugt i forskelligt ætsnings- og tyndfilmsudfældningsudstyr, såsom plasmaætsere, kemiske dampaflejringssystemer osv. I disse behandlingssystemer kan CVD TAC Coating modstå højenergi-ionbombardement og stærke kemiske reaktioner , hvorved processens nøjagtighed og repeterbarhed sikres.

Uanset hvad dine specifikke krav er, vil vi matche den bedste løsning til dine CVD TAC -belægningsbehov og ser frem til din konsultation til enhver tid.

VeTek Semiconductor CVD TAC Coating produkter butikker:

Oversigt over Semiconductor Chip Epitaxy Industry Chain: