Nyheder

Industri -nyheder

ALD -atomlagsaflejring opskrift27 2024-07

ALD -atomlagsaflejring opskrift

Rumlig ALD, rumligt isoleret atomlagsaflejring. Skiven bevæger sig mellem forskellige positioner og udsættes for forskellige forløbere på hver position. Figuren nedenfor er en sammenligning mellem traditionel ALD og rumligt isoleret ALD.
Tantalum carbidteknologi gennembrud, sic epitaksial forurening reduceret med 75%?27 2024-07

Tantalum carbidteknologi gennembrud, sic epitaksial forurening reduceret med 75%?

For nylig har det tyske forskningsinstitut fraunhofer IISB lavet et gennembrud i forskningen og udviklingen af ​​tantalcarbombelægningsteknologi og udviklet en spraybelægningsopløsning, der er mere fleksibel og miljøvenlig end CVD -afsætningsopløsningen og er blevet kommercialiseret.
Udforskende anvendelse af 3D-printteknologi i halvlederindustrien19 2024-07

Udforskende anvendelse af 3D-printteknologi i halvlederindustrien

I en æra med hurtig teknologisk udvikling ændrer 3D-print, som en vigtig repræsentant for avanceret fremstillingsteknologi, gradvist ansigtet for traditionel fremstilling. Med den fortsatte modenhed af teknologi og reduktionen af ​​omkostningerne har 3D-printteknologi vist brede anvendelsesmuligheder inden for mange områder, såsom rumfart, bilproduktion, medicinsk udstyr og arkitektonisk design, og har fremmet innovation og udvikling af disse industrier.
Silicon (SI) Epitaxy Preparch Technology16 2024-07

Silicon (SI) Epitaxy Preparch Technology

Enkelt krystalmaterialer alene kan ikke imødekomme behovene i den voksende produktion af forskellige halvlederenheder. I slutningen af ​​1959 blev der udviklet et tyndt lag med enkelt krystalmaterialvækstteknologi - epitaksial vækst.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept