High Purity Quartz Wafer Carrier

1. Nøglefunktioner og fordele

• Ultra-høj renhed dehydroxyleret smeltet kvarts (SiO₂ ≥ 99,999%) med metalurenheder kontrolleret ved ppb-niveauer – minimerer waferkontamination

• Langtidsdriftstemperatur op til 1100 °C; kortvarig topmodstand til 1200 °C

• Fremragende termisk stødmodstand og dimensionsstabilitet under hyppige temperaturcyklusser

• Stærk kemisk inertitet over for oxiderende procesgasser og almindelige vådproceskemikalier (HF, H₂O₂, syrer/alkalier)

• Høj planhed og præcisionsslebet overflade med afrundede kanter for ensartet waferstøtte og reduceret kantskader

• Lav vakuumafgasning og lav overfladeadsorption - velegnet til præcisionsvakuumprocesser

• Fuldt tilpasselige strukturer: solide bærere, perforerede/ventilerede designs, trinvise lokaliseringsfunktioner, positioneringshuller, multipunktsstøtter og fortykkede anti-deformationsdesign til 2-12 tommer wafers

2. Typiske applikationer

Disse bærere bruges overalt, hvor wafere har brug for ren, formstabil støtte under forhøjede temperaturer eller aggressiv kemi:

• Diffusions- og udglødningsovnbelastning

• Understøtter PECVD- og LPCVD-filmvækstprocessen

• Vakuumkammer og højtemperatur procesværktøj

• Stationsbærere efter ætsning og vådrengøring

• SiC og GaN termisk effekt-enhed behandling

• Optoelektronisk substrathåndtering og termiske laboratorieværktøjer

3. Nøgle tekniske parametre

• Basismateriale: dehydroxyleret smeltet kvarts af halvlederkvalitet, SiO₂ ≥ 99,999%

• Kompatible waferstørrelser: 2, 4, 6, 8 og 12 tommer (Si, SiC, GaN, safir)

• Anbefalet kontinuerligt temperaturområde: −20 °C til 1100 °C; kortvarig top op til cirka 1200 °C

• Fremstillingsrute: formning i ét stykke, præcisionsoverfladeslibning, kantafrunding, afspændingsudglødning og ultra-ren slutrengøring

• Tilgængelige konfigurationer: solid, ventileret/perforeret, trinvis placering, hulmønstret og fuldt tilpassede geometrier

• Ydeevnefokus: høj renhed, termisk stabilitet, korrosionsbestandighed, overfladeplanhed, lav afgasning og langsigtet dimensionsfastholdelse

• Tilpasningsomfang: ydre dimensioner, tykkelse, støttegeometri, hullayout og specielle funktioner baseret på kundetegninger

4. Hvorfor vælge VeTek High Purity Quartz Wafer Carriers?

Som en professionel producent af halvlederkvartskomponenter tilbyder VeTek Semiconductor:

• High Purity Quartz Wafer Carriers konstrueret til termiske, vakuum- og våde procesmiljøer

• Streng renhedskontrol, overfladeplanhed og renhed velegnet til avanceret halvlederproduktion

• Fuld tilpasning og OEM-kompatible design til ovn-, kammer- og processtationsværktøj

• Komplementære halvlederkvartsprodukter inklusive ovnrør, waferbåde, digler og andre proceskomponenter

Vores High Purity Quartz Wafer Carriers hjælper med at opretholde ensartet termisk kontakt, reducere partikel- og metalforurening og forlænge værktøjets levetid under kontinuerlige høje temperaturer og korrosive procesforhold – hvilket understøtter højere udbytte og lavere ejeromkostninger i halvlederfremstilling.