TAC Coating Rotation Plate

Vetek Semiconductors TAC -belægningsrotationsplade har en høj renhedssammensætning, et urenhedsindhold på mindre end 5 ppm og en tæt og ensartet struktur, der er vidt brugt i LPE EPI -systemer, AIXTRON -systemer, nuflare -systemer, Tel CVD -systemer, VEECO -systemer, TSI -systemer.

● Fremragende mekaniske egenskaber:

Belægning af hårdhed op til 2300HV, med fremragende slidstyrke.

Vedhæftningen mellem belægningen og underlaget er stærk, og det er ikke let at falde af eller skræl.

Belægningen kan stadig opretholde god strukturel stabilitet ved høj temperatur.

●  Fremragende korrosionsbestandighed:

TAC -materiale har selv fremragende kemisk stabilitet og korrosionsbestandighed.

Vetek Semiconductors belægninger fungerer godt i en række aggressive gasmiljøer.

Kan effektivt beskytte de interne komponenter i udstyret mod korrosionsskade.

● Høj overfladefinish:

Vetek Semiconductor bruger en præcis belægningsproces til at producere den ønskede finish.

Lav overfladefremhed hjælper med at reducere partikelakkumulering og afsætning.

● Belægningskonsistens er god:

Vetek Semiconductor har et lydkvalitetskontrolsystem for at sikre en konsekvent ydelse mellem batches.

Belægningstykkelsen er jævnt fordelt, og der er ingen åbenlyse lokale defekter.

● Fremragende praktisk applikationsydelse:

Vetek Semiconductors TAC-belægning er vidt brugt i mange velkendte epitaksiale udstyrsproducenter i ind-og udland.

Produktfysisk parameter for den TAC -belagte rotationsplade:

Tantalcarbidbelægning på et mikroskopisk tværsnit