CVD tantalcarbid(TaC) belagt susceptor

Nøglefunktioner

Ansøgninger

Typiske anvendelser omfatter:

• SiC epitaksial vækst

• GaN MOCVD epitaksi

• AlN epitaksial vækst

• Tredje generation af halvlederfremstilling

• Højeffektelektronik

• RF-enheder

• MicroLED produktion

• Forsknings- og pilotproduktionssystemer

Kompatibelt udstyr

Kompatible platforme omfatter:

• Aixtron

• LPE

• Veeco

• AMEC

• NuFlare

• Brugerdefinerede CVD- og MOCVD-reaktorer

Fås også:

• Wafer Carriers

• Planetariske Susceptorer

• Tøndesusceptorer

• Rotationsskiver

• Halvmånedele

• Dækplader

• Grafitsamlinger

• Brugerdefinerede termiske feltkomponenter

Tekniske specifikationer

Ofte stillede spørgsmål

1. Hvad er en CVD TaC Coated Susceptor?

En højrent grafitkomponent beskyttet af en tæt CVD TaC-belægning, der bruges som wafer-bærer under epitaksial vækst.

2. Hvorfor bruge TaC coating i stedet for SiC-belægning?

TaC tilbyder højere temperaturbestandighed, overlegen kemisk stabilitet og længere levetid.

3.Hvilke halvlederprocesser bruger TaC-cede susceptorer?

SiC-epitaksi, GaN MOCVD, AlN-epitaksi og andre højtemperatur-krystalvækstprocesser.

4. Kan VETEK fremstille skræddersyede susceptorer?

Ja. Vi leverer tilpassede design baseret på kundetegninger og proceskrav.

5. Hvilke reaktormærker understøttes?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare og andre mainstream-systemer.