Epi Wafer Holder

Vetek Semiconductor understøtter tilpassede produkttjenester, så Epi Wafer Holder kan give dig tilpassede produkttjenester baseret på størrelsen påWafer(100 mm, 150 mm, 200 mm, 300 mm osv.). Vi håber inderligt at være din langsigtede partner i Kina.

Funktionen og arbejdsprincippet for Epi Wafer indehavere

På området for halvlederproduktion er epitaxy -processen afgørende for at fremstille høje- Performance Semiconductor -enheder. I hjertet af denne proces er Epi Wafer Holder, der spiller en central rolle i at sikre kvaliteten og effektiviteten afepitaksial vækst.

Epi Wafer Holder er primært designet til sikkert at holde skiven under epitaxy -processen. Dets centrale opgave er at opretholde skiven i en nøjagtigt kontrolleret temperatur og gas -flowmiljø. Denne omhyggelige kontrol gør det muligt at deponeres det epitaksiale materiale, der er jævnt på waferoverfladen, et kritisk trin i at skabe ensartede og høje halvlederlag af høj kvalitet.

Under de høje temperaturbetingelser, der er typiske for epitakseprocessen, udmærker Epi Waferholderen sig i sin funktion. Den fikserer skiven fast inden for reaktionskammeret, mens man nøje undgår potentiel skade, såsom ridser og forebygger partikelforurening på skiven.

Materielle egenskaber:HvorforSiliciumcarbid (sic)Skinner

Epi Wafer -indehavere er ofte udformet af siliciumcarbid (SIC), et materiale, der tilbyder en unik kombination af fordelagtige egenskaber. SIC har en lav termisk ekspansionskoefficient på ca. 4,0 x 10⁻⁶ /° C. Denne egenskab er central for at opretholde indehaverens dimensionelle stabilitet ved forhøjede temperaturer. Ved at minimere termisk ekspansion forhindrer det effektivt stress på skiven, der ellers kan være resultatet af ændringer i temperaturrelaterede størrelser.

Derudover kan SIC prale af fremragende høj - temperaturstabilitet. Det kan problemfrit modstå de høje temperaturer, der spænder fra 1.200 ° C til 1.600 ° C, der kræves i epitakseprocessen. Sammen med dens ekstraordinære korrosionsmodstand og beundringsværdig termisk ledningsevne (normalt mellem 120 - 160 W/MK) fremkommer SIC som det optimale valg for epitaksiale skivereholdere.

Nøglefunktioner i den epitaksiale proces

Epi Wafer -indehaverens betydning i den epitaksiale proces kan ikke overdrives. Det fungerer som et stabilt bærer under høje temperatur- og ætsende gasmiljøer, hvilket sikrer, at skiven forbliver upåvirket under epitaksial vækst og fremmer den ensartede udvikling af det epitaksiale lag.

1. Wafa Fixation and Præcis tilpasningEn høj -præcision konstrueret Epi Wafer -indehaver placerer fast skiven i det geometriske centrum af reaktionskammeret. Denne placering garanterer, at skiveoverfladen danner en ideel kontaktvinkel med reaktionsgasstrømmen. Præcis justering er ikke kun vigtig for at opnå ensartet epitaksial lagaflejring, men reducerer også signifikant stresskoncentration som følge af afvigelse af waferposition.

2.uniform opvarmning og termisk feltkontrolUdnyttelse af den fremragende termiske ledningsevne af SIC -materialet giver Epi Wafer Holder effektiv varmeoverførsel til skiven i høje temperaturepitaksiale miljøer. Samtidig udøver det fin kontrol over temperaturfordelingen af ​​varmesystemet. Denne dobbelte mekanisme sikrer en ensartet temperatur på tværs af hele skivfladen, hvilket effektivt eliminerer termisk stress forårsaget af overdreven temperaturgradienter. Som et resultat minimeres sandsynligheden for defekter som Wafer Warping og revner betydeligt.

3.Tilpartikelforureningskontrol og materiel renhedBrugen af ​​høje sic -substrater og CVD - coatede grafitmaterialer er et spil - skifter i partikelforureningskontrol. Disse materialer begrænser væsentligt generering og diffusion af partikler under epitaxy -processen, hvilket tilvejebringer et uberørt miljø for væksten af ​​det epitaksiale lag. Ved at reducere grænsefladefejl forbedrer de kvaliteten og pålideligheden af ​​det epitaksiale lag.

4. KorrosionsmodstandUnderMOCVDEller LPCVD -processer, EPI Wafer -indehaveren skal udholde ætsende gasser, såsom ammoniak og trimethylgallium. Den enestående korrosionsmodstand af SIC -materialer gør det muligt for indehaveren at have en udvidet levetid og derved garantere pålideligheden af ​​hele produktionsprocessen.

Tilpassede tjenester af Vetek Semiconductor

Vetek Semiconductor er forpligtet til at imødekomme forskellige kundebehov. Vi tilbyder tilpassede Epi Wafer Holder Services, der er skræddersyet til forskellige skivestørrelser, herunder 100 mm, 150 mm, 200 mm, 300 mm og videre. Vores team af eksperter er dedikeret til at levere produkter med høj kvalitet, der netop matcher dine krav. Vi ser oprigtigt frem til at blive din lange partner i Kina og give dig Top - Notch Semiconductor Solutions.

SEM -data fra CVD Sic Film Krystalstruktur:

Grundlæggende fysiske egenskaber ved CVD SIC -belægning：

Sammenlign halvleder Epi Wafer Holder Production Shops: