ICP/PSS ætsningsproces

VeTek Semiconductor ICPPSS (Inductively Coupled Plasma Photoresist Stripping) Etching Process Wafer Carrier er specielt designet til at opfylde de krævende krav til halvlederindustriens ætsningsprocesser. Med sine avancerede funktioner sikrer den optimal ydeevne, effektivitet og pålidelighed gennem hele ætsningsprocessen.

Fordelen ved VeTek Semiconductor ICP/PSS Etching Process Susveptors:

Forbedret kemisk kompatibilitet: Waferbæreren er konstrueret af materialer, der udviser fremragende kemisk kompatibilitet med ætsningsprocessens kemi. Dette sikrer kompatibilitet med en bred vifte af ætsemidler, resist strippere og rengøringsopløsninger, hvilket minimerer risikoen for kemiske reaktioner eller kontaminering.

Højtemperaturmodstand: Waferbæreren er designet til at modstå høje temperaturer, der opstår under ætseprocessen. Den bevarer sin strukturelle integritet og mekaniske styrke og forhindrer deformation eller beskadigelse selv under ekstreme termiske forhold.

Overlegen ætsningsensartethed: Bæreren har et præcist konstrueret design, der fremmer ensartet fordeling af ætsemidler og gasser over waferoverfladen. Dette resulterer i ensartede ætsningshastigheder og ensartede mønstre af høj kvalitet, som er afgørende for at opnå præcise og pålidelige ætseresultater.

Fremragende wafer-stabilitet: Bæreren indeholder en sikker wafer-holdemekanisme, der sikrer stabil placering og forhindrer wafer-bevægelse eller glidning under ætseprocessen. Dette garanterer nøjagtige og gentagelige ætsningsmønstre, hvilket minimerer defekter og udbyttetab.

Renrumskompatibilitet: Waferholderen er designet til at opfylde strenge renrumsstandarder. Den har lav partikeldannelse og fremragende renlighed, hvilket forhindrer enhver partikelkontamination, der kan kompromittere kvaliteten og udbyttet af ætseprocessen. Urenheden er under 5 ppm.

Robust og holdbar konstruktion: Transportøren er konstrueret ved hjælp af materialer af høj kvalitet kendt for deres holdbarhed og lange levetid. Den kan modstå gentagen brug og strenge rengøringsprocesser uden at kompromittere dens ydeevne eller strukturelle integritet.

Customizable Design: Vi tilbyder tilpassede muligheder for at imødekomme specifikke kundekrav. Bæreren kan skræddersyes til at rumme forskellige waferstørrelser, tykkelser og processpecifikationer, hvilket sikrer kompatibilitet med forskelligt ætseudstyr og -processer.

Oplev pålideligheden og ydeevnen af ​​vores ICP/PSS Etching Process Wafer Carrier, designet til at optimere ætsningsprocessen i halvlederindustrien. Dens forbedrede kemiske kompatibilitet, modstandsdygtighed over for høje temperaturer, overlegen ætsningsensartethed, fremragende waferstabilitet, renrumskompatibilitet, robust konstruktion og tilpasseligt design gør det til det ideelle valg til dine ætsningsapplikationer.

PSS Ætseplade ICP ætsningsplade ICP Etching Susceptor