Flad susceptor og tønde susceptor er hovedformen af epi susceptorer.VeTek Semiconductor er en førende LPE Si Epi Susceptor Set producent og innovator i Kina. Vi har været specialiseret i SiC coating og TaC coating i mange år.Vi tilbyder en LPE Si Epi Susceptor Sæt designet specielt til LPE PE2061S 4" wafere. Den matchende grad af grafitmateriale og SiC-belægning er god, ensartetheden er fremragende, og levetiden er lang, hvilket kan forbedre udbyttet af epitaksial lagvækst under LPE-processen (Liquid Phase Epitaxy). Vi byder dig velkommen til at besøge vores fabrik i Kina.
Vetek Semiconductor er en professionel Kina LPE, hvis EPI -aftensmadene sætter producent og leverandør. Med god kvalitet og konkurrencedygtig pris skal du være velkommen til at besøge vores fabrik og oprette langvarig samarbejde med os.
VeTeK Semiconductor LPE Si Epi Susceptor Set er et højtydende produkt skabt ved at påføre et fint lag siliciumcarbid på overfladen af højt rensetisotrop grafit. Dette opnås gennem Vetek Semiconductors proprietære kemiske dampaflejringsproces (CVD).
Det halvleder's LPE Si Epi Susceptor Set er en CVD epitaksial aflejringstønde reaktor designet til at fungere pålideligt selv under udfordrende forhold. Dens enestående belægningsvedhæftning, modstandsdygtighed over for højtemperaturoxidation og korrosion gør den til et ideelt valg til barske miljøer. Desuden forhindrer dens ensartede termiske profil og laminære gasstrømningsmønster forurening, hvilket sikrer væksten af epitaksiale lag af høj kvalitet.
Det tøndeformede design af vores halvlederepitaksiale reaktor optimerer gasstrømmen og sikrer, at varmen er jævnt fordelt. Denne funktion forhindrer effektivt kontaminering og diffusion af urenheder, hvilket garanterer produktionen af højkvalitets epitaksiale lag på wafer-substrater.
Hos VeTek Semiconductor er vi forpligtet til at give kunderne højkvalitets og omkostningseffektive produkter. Vores LPE Si Epi Susceptor Sæt tilbyder konkurrencedygtige priser, samtidig med at den opretholder fremragende tæthed for både grafitsubstratet ogSiliciumcarbidbelægning. Denne kombination sikrer pålidelig beskyttelse i høj-temperatur og ætsende arbejdsmiljøer.
SEM DATA FOR CVD SIC FILM
Grundlæggende fysiske egenskaber ved CVD SIC -belægning:
Grundlæggende fysiske egenskaber af CVD SiC belægning
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Vi bruger cookies til at tilbyde dig en bedre browsingoplevelse, analysere trafik på webstedet og tilpasse indhold. Ved at bruge denne side accepterer du vores brug af cookies. Privatlivspolitik