Siliciumcarbid belægning

VeTeK Semiconductor producerer SiC Coating grafit MOCVD varmelegeme, som er en nøglekomponent i MOCVD processen. Baseret på et højrent grafitsubstrat er overfladen belagt med en højrent SiC-belægning for at give fremragende højtemperaturstabilitet og korrosionsbestandighed. Med høj kvalitet og meget tilpassede produktservices er VeTeK Semiconductors SiC Coating grafit MOCVD varmelegeme et ideelt valg til at sikre MOCVD processtabilitet og tynd film aflejringskvalitet. VeTeK Semiconductor ser frem til at blive din partner.

VeTek Semiconductor er en førende producent og leverandør af SiC-belægningsprodukter i Kina. VeTek Semiconductors siliciumcarbidbelagte Epi-susceptor har industriens højeste kvalitetsniveau, er velegnet til flere typer epitaksiale vækstovne og leverer meget tilpassede produkttjenester. VeTek Semiconductor ser frem til at blive din langsigtede partner i Kina.

SIC -belægningsmonokrystallinsk siliciumpitaksialbakke er et vigtigt tilbehør til monokrystallinsk siliciumpitaksial vækstovn, hvilket sikrer minimal forurening og et stabilt epitaksialt vækstmiljø. Vetek Semiconductors SIC-belægningsmonokrystallinsk siliciumpitaksialbakke har en ultra lang levetid og giver en række tilpasningsmuligheder. Vetek Semiconductor ser frem til at blive din langsigtede partner i Kina.

Vetek Semiconductors faste SIC Wafer Carrier er designet til høje temperatur- og korrosionsbestandige miljøer i halvlederpitaksiale processer og er velegnet til alle typer skivefremstillingsprocesser med krav til høj renhed. Vetek Semiconductor er en førende leverandør af Wafer Carrier i Kina og ser frem til at blive din langsigtede partner i halvlederindustrien.

SIC Coated Satellite Cover for MOCVD spiller en uerstattelig rolle i at sikre epitaksial vækst af høj kvalitet på skiver på grund af dens ekstremt høje temperaturresistens, fremragende korrosionsbestandighed og enestående oxidationsmodstand.

Vetek Semiconductor er en førende producent af halvlederudstyr i Kina og en professionel producent og leverandør af solid SIC-diskformet brusehoved. Vores skiveform brusehoved er vidt brugt i tynd filmaflejringsproduktion såsom CVD -proces for at sikre ensartet fordeling af reaktionsgas og er en af ​​kernekomponenterne i CVD -ovnen.