TAC Coating Rotation Sceptor

Vetek Semiconductor TAC Coating Rotation Sceptor er en nøglekomponent til Wafer -håndtering i halvlederbehandling. DensTac hvadVoresHar fremragende højtemperaturtolerance (smeltepunkt op til 3880 ° C), kemisk stabilitet og korrosionsbestandighed, som sikrer høj præcision og høj kvalitet i skivebehandling.

TAC Coating Rotation Sceptor (Tantalum Carbon Coating Rotation Sceptor) er en nøgleudstyrskomponent, der bruges i halvlederbehandling. Det er normalt installeret iKemisk dampaflejring (CVD)og molekylærbjælkepitaxy (MBE) udstyr til understøttelse og roterende skiver for at sikre ensartet materialeaflejring og effektiv reaktion. Denne type produkt forbedrer udstyrets levetid og ydeevne markant i høj temperatur og ætsende miljøer ved at belægge underlaget medTantalum carbon (TAC) belægning.

TAC -belægningsrotationsceptor er normalt sammensat af TAC -belægning og grafit eller siliciumcarbid som substratmateriale. TAC er et ultrahøjt temperatur keramisk materiale med ekstremt højt smeltepunkt (smeltepunkt op til 3880 ° C), hårdhed (Vickers hårdhed er ca. 2000 HK) og fremragende kemisk korrosionsbestandighed. Vetek Semiconductor kan effektivt og jævnt dække tantalcarbonbelægningen på substratmaterialet gennem CVD -teknologi.

Rotationssceptor er normalt lavet af høj termisk ledningsevne og materialer med høj styrke (grafit ellerSiliciumcarbid), som kan give god mekanisk understøttelse og termisk stabilitet i miljøer med høj temperatur. Den perfekte kombination af de to bestemmer den perfekte ydelse af TAC -coating -rotationssceptor til understøttelse og roterende skiver.

TAC Coating Rotation Sceptor understøtter og roterer skiven i CVD -processen. Vickers -hårdheden af ​​TAC er omkring 2000 HK, hvilket gør det muligt for den at modstå gentagen friktion af materialet og spille en god bærende rolle og derved sikre, at reaktionsgassen er jævnt fordelt på skiveoverfladen, og materialet deponeres jævnt. På samme tid muliggør den høje temperaturtolerance og korrosionsbestandighed af TAC -belægning, at den kan bruges i lang tid i høj temperatur og ætsende atmosfærer, som effektivt undgår forurening af skiven og bæreren.

Desuden er TAC's termiske ledningsevne 21 W/M · K, som har god varmeoverførsel. Derfor kan TAC -belægningsrotationssceptor opvarme skiven jævnt under høje temperaturforhold og sikre ensartetheden af ​​gasaflejringsprocessen gennem rotationsbevægelse og derved opretholde konsistensen og høj kvalitet afWafer Growth.

Tantalumcarbid (TAC) belægning på et mikroskopisk tværsnit：

Fysiske egenskaber ved TAC -belægning：

TAC Coating Rotation Sceptor Shops: