Grafit roterende support

Wafer Sceptor er et must for epitaksial vækstproces. Under epitaksial vækst anbringes skivesubstratet i følsomheden. Vetek Semiconductors grafit-roterende følsomheder med høj rensning anvendes i materialebehandlingsudstyr under høje temperatur og høje vakuummiljøer. I den epitaksiale vækst af galliumnitrid (MOCVD -proces) spiller de en bærende rolle i rotationen af ​​underlaget. Vetek Semiconductors roterende grafit -følsomhed har følgende fordele:

● Høj renhed: Urenhedsindholdet i grafit-roterende følsomheder med høj renhed er under 5 ppm. Dette niveau af renhedsgrafit kan undgå frigivelse af urenheder ved høje temperaturer for at sikre, at deponeringsprocessen skulle være renlighed. Derfor kræves der ingen belægning for at imødekomme arbejdskravene.

Grafit med høj renhed

● Fremragende termiske egenskaber: Grafit med høj renhed har fremragende termisk ledningsevne, og dens termiske ledningsevne er meget højere end andre materialer. Den termiske ekspansionskoefficient er lille og kan opretholde stabil ydelse, når der opleves temperaturændringer.

● Gode mekaniske egenskaber: Grafit med høj renhed har god slidstyrke og sejhed, som kan opfylde de komplekse krav til CVD-proces.

● Fremragende ledningsevne: Konduktiviteten er hundrede gange højere end for generelle ikke-metalliske mineraler.

● Kemisk stabilitet: Det kan modstå korrosion fra syrer, alkalier og organiske opløsningsmidler

Som en førende producent og leverandør af grafit med høj renhedsgrafit i Kina leverer Vetek Semiconductor også også af høj kvalitet af høj kvalitetSic coated grafitfølsomhed for MOCVD, Sic coated tøndefølsomhed, TAC Coated Graphite SupportogMOCVD SIC Coating Sceptor.Vetek Semiconductor er forpligtet til at levere avanceret teknologi og produktløsninger til halvlederindustrien og understøtter også tilpassede tjenester. Vi ser oprigtigt frem til at blive din langsigtede partner i Kina.

Det halvlederGrafit Roterende Sceptor Produktbutikker: