Webmenu

Produktsøgning

Sprog

Produkter

Oxidation og diffusionsovn

Oxidations- og diffusionsovne bruges på forskellige felter, såsom halvlederindretninger, diskrete enheder, optoelektroniske enheder, elektroniske enheder, solceller og storskala integreret kredsløbsproduktion. De bruges til processer, herunder diffusion, oxidation, annealing, legering og sintring af skivere.


Vetek Semiconductor er en førende producent, der specialiserer sig i produktion af grafit med høj renhed, siliciumcarbid og kvartskomponenter i oxidation og diffusionsovne. Vi er forpligtet til at tilvejebringe ovnekomponenter af høj kvalitet til halvlederen og fotovoltaiske industrier og er i spidsen for overfladebelægningsteknologi, såsom CVD-SIC, CVD-TAC, Pyrocarbon osv.


Fordelene ved Vetek halvleder siliciumcarbidkomponenter:

● Modstand med høj temperatur (op til 1600 ℃)

● Fremragende termisk ledningsevne og termisk stabilitet

● God kemisk korrosionsbestandighed

● Lav koefficient for termisk ekspansion

● Høj styrke og hårdhed

● lang levetid


I oxidations- og diffusionsovne kræver mange komponenter på grund af tilstedeværelsen af ​​høj temperatur og ætsende gasser, at der er et almindeligt anvendt valg af høj temperatur og korrosionsbestandige materialer, blandt hvilke siliciumcarbid (SIC) er et almindeligt anvendt valg. Følgende er almindelige siliciumcarbidkomponenter, der findes i oxidationsovne og diffusionsovne:



● Wafer Boat

Siliciumcarbidskivebåd er en beholder, der bruges til at bære siliciumskiver, som kan modstå høje temperaturer og ikke reagerer med siliciumskiver.


● ovnrør

Ovnrøret er kernekomponenten i diffusionsovnen, der bruges til at rumme siliciumskiver og kontrollere reaktionsmiljøet. Siliciumcarbidovnrør har fremragende høj temperatur og korrosionsbestandighed.


● Baffelplade

Bruges til at regulere luftstrømmen og temperaturfordelingen inde i ovnen


● Termoelementbeskyttelsesrør

Bruges til at beskytte temperaturmåling af termoelementer mod direkte kontakt med ætsende gasser.


● Cantilever padle

Siliciumcarbid -cantilever -padler er resistente over for høj temperatur og korrosion og bruges til at transportere siliciumbåde eller quartz -både, der bærer siliciumskiver ind i diffusionsovnens rør.


● Gasinjektor

Bruges til at indføre reaktionsgas i ovnen, den skal være resistent over for høj temperatur og korrosion.


● Bådfirma

Siliciumcarbid wafer bådbærer bruges til at fikse og understøtte siliciumskiver, som har fordele såsom høj styrke, korrosionsbestandighed og god strukturel stabilitet.


● ovndør

Siliciumcarbidbelægninger eller komponenter kan også bruges på indersiden af ​​ovndøren.


● Varmeelement

Siliciumcarbidopvarmningselementer er egnede til høje temperaturer, høj effekt og kan hurtigt hæve temperaturerne til over 1000 ℃.


● SIC -foring

Bruges til at beskytte den indre mur af ovnrør, det kan hjælpe med at reducere tabet af varmeenergi og modstå barske miljøer såsom højt temperatur og højt tryk.

View as  
 
Høj ren siliciumcarbid wafer bærer

Høj ren siliciumcarbid wafer bærer

Vetek Semiconductor High Pure Silicon Carbide Wafer Carrier er vigtige komponenter i halvlederforarbejdning, designet til sikkert at holde og transportere delikate siliciumskiver, der spiller en nøglerolle i alle faser af fremstilling. Vetek Semiconductors High Pure Silicon Carbide Wafer Carrier er omhyggeligt designet og fremstillet for at sikre fremragende ydelse og pålidelighed. Vetek Semiconductor er forpligtet til at levere kvalitetsprodukter til konkurrencedygtige priser, og vi ser frem til at være din langsigtede partner i Kina. Feel gratis for at spørge os.
Se mere >> Send forespørgsel >>
Silicium carbide wafer båd

Silicium carbide wafer båd

Vetek Semiconductors siliciumcarbidbåd med høj renhed er lavet af ekstremt rent siliciumcarbidmateriale med fremragende termisk stabilitet, mekanisk styrke og kemisk modstand. Siliciumkarbidbåd med høj renhed bruges i varmzone-applikationer i halvlederfremstilling, især i miljøer med høj temperatur, og spiller en vigtig rolle i at beskytte skivere, transportere materialer og opretholde stabile processer. Vetek Semiconductor vil fortsætte med at arbejde hårdt for at innovere og forbedre ydelsen af ​​siliciumkarbidbåd med høj renhed for at imødekomme de udviklende behov for halvlederproduktion. Vi ser frem til at blive din langsigtede partner i Kina. Feel gratis at spørge os.
Se mere >> Send forespørgsel >>

Shop high-performance Oxidation and Diffusion Furnace components at Veteksemicon—your trusted source for SiC-based thermal process solutions.


Veteksemicon supplies premium-grade silicon carbide (SiC) components designed specifically for oxidation and diffusion furnace systems in semiconductor manufacturing. These SiC parts exhibit excellent thermal shock resistance, high mechanical strength, and long-term dimensional stability in ultra-high-temperature and oxidizing environments. Ideal for process temperatures exceeding 1200°C, they are widely used in atmospheric and low-pressure diffusion systems, oxidation furnaces, and vertical thermal reactors.


Our product portfolio includes SiC cantilevers, boats, support rods, and tube liners, all engineered for precise wafer positioning and minimal particle contamination. The low thermal expansion coefficient of SiC helps maintain alignment across thermal cycles, while its chemical inertness ensures compatibility with O₂, N₂, H₂, and dopant gases. Whether for dry oxidation or dopant diffusion (e.g., phosphorus or boron), Veteksemicon’s diffusion furnace solutions enhance process stability, extend maintenance intervals, and support 200mm/300mm wafer formats.


For technical drawings, material datasheets, or quotation support, please visit Veteksemicon’s Oxidation and Diffusion Furnace product page or contact our application engineers.


Som professionel Oxidation og diffusionsovn producent og leverandør i Kina har vi vores egen fabrik. Uanset om du har brug for tilpassede tjenester til at imødekomme de specifikke behov i din region eller ønsker at købe avancerede og holdbare Oxidation og diffusionsovn lavet i Kina, kan du efterlade os en besked.
Nyhedsanbefalinger
Hvad er kernematerialet til SIC -vækst?
Hvad er kernematerialet til SIC -vækst?Se mere >>
Principper og teknologi til fysisk dampaflejringsbelægning (1/2) - Vetek Semiconductor
Principper og teknologi til fysisk dampaflejringsbelægning (1/2) - Vetek SemiconductorSe mere >>
Hvad er SIC-coated grafitfølsomhed?
Hvad er SIC-coated grafitfølsomhed?Se mere >>
Chip Manufacturing: Atomic Layer Deposition (ALD)
Chip Manufacturing: Atomic Layer Deposition (ALD)Se mere >>
Halvlederproces: Kemisk dampaflejring (CVD)
Halvlederproces: Kemisk dampaflejring (CVD)Se mere >>
Hvilket måleudstyr er der i Fab Factory? - Vetek Semiconductor
Hvilket måleudstyr er der i Fab Factory? - Vetek SemiconductorSe mere >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept