Produkter

I kerneprocessen af ​​siliciumcarbid epitaksial vækst forstår Veteksemicon, at susceptorydelse direkte bestemmer kvaliteten og produktionseffektiviteten af ​​det epitaksiale lag. Vores EPI-susceptorer med høj renhed, designet specifikt til SiC-feltet, bruger et specielt grafitsubstrat og en tæt CVD SiC-belægning. Med deres overlegne termiske stabilitet, fremragende korrosionsbestandighed og ekstremt lave partikelgenereringshastighed sikrer de uovertruffen tykkelse og ensartet doping for kunder selv i barske procesmiljøer med høje temperaturer. At vælge Veteksemicon betyder at vælge hjørnestenen for pålidelighed og ydeevne for dine avancerede halvlederfremstillingsprocesser.

Veteksemicon SiC-belagt grafitsusceptor til ASM er en kernebærerkomponent i halvlederepitaksiale processer. Dette produkt anvender vores proprietære pyrolytiske siliciumcarbidbelægningsteknologi og præcisionsbearbejdningsprocesser for at sikre overlegen ydeevne og en ultralang levetid i høje temperaturer og korrosive procesmiljøer. Vi forstår dybt de strenge krav til epitaksiale processer med hensyn til substratrenhed, termisk stabilitet og konsistens og er forpligtet til at give kunderne stabile, pålidelige løsninger, der forbedrer udstyrets overordnede ydeevne.

Veteksemicon kvartsdigler af halvlederkvalitet er vigtige forbrugsstoffer i Czochralskis enkeltkrystalvækstproces. Med ekstrem renhed og overlegen termisk stabilitet som vores kernefokus, er vi forpligtet til at give kunderne produkter af høj kvalitet, der udviser stabil ydeevne og fremragende modstandsdygtighed over for krystallisation under høje temperaturer og højtryksmiljøer. Dette sikrer kvaliteten af ​​krystalstængerne fra kilden, hvilket hjælper fremstilling af halvledersiliciumwafer med at opnå højere udbytte og bedre omkostningseffektivitet.

Veteksemicon fokusring er designet specifikt til krævende halvlederætsningsudstyr, især SiC-ætsningsapplikationer. Monteret omkring den elektrostatiske chuck (ESC), i umiddelbar nærhed af waferen, er dens primære funktion at optimere den elektromagnetiske feltfordeling i reaktionskammeret, hvilket sikrer ensartet og fokuseret plasmahandling over hele waferens overflade. En højtydende fokusring forbedrer ætsningshastighedens ensartethed betydeligt og reducerer kanteffekter, hvilket direkte øger produktudbyttet og produktionseffektiviteten.

Veteksemicon siliciumcarbidbærerplade til LED-ætsning, der er specielt designet til fremstilling af LED-chips, er et kerneforbrugsstof i ætningsprocessen. Fremstillet af præcisionssintret siliciumcarbid med høj renhed, tilbyder den enestående kemisk modstand og høj temperatur dimensionsstabilitet, der effektivt modstår korrosion fra stærke syrer, baser og plasma. Dens lave forureningsegenskaber sikrer høje udbytter for LED-epitaksiale wafere, mens dens holdbarhed, der langt overstiger traditionelle materialer, hjælper kunderne med at reducere de samlede driftsomkostninger, hvilket gør det til et pålideligt valg til at forbedre effektiviteten og konsistensen af ​​ætsningsprocessen.

Veteksemicon grafitbåd til PECVD er præcisionsbearbejdet af højrent grafit og designet specielt til plasmaforstærkede kemiske dampaflejringsprocesser. Ved at udnytte vores dybe forståelse af termiske halvledermaterialer og præcisionsbearbejdningskapaciteter tilbyder vi grafitbåde med enestående termisk stabilitet, fremragende ledningsevne og lang levetid. Disse både er designet til at sikre meget ensartet tyndfilmaflejring på tværs af hver wafer i det krævende PECVD-procesmiljø, hvilket forbedrer procesudbyttet og produktiviteten.