Produkter

Veteksemicons CVD-sic coated wafer-følsomhed er en banebrydende løsning til halvlederpitaksiale processer, der tilbyder ultrahøj renhed (≤100 ppb, ICP-E10-certificerede) og usædvanlige termiske/kemiske stabilitet for kontamineringsresistent vækst af GAN, SIC og siliconbaserede epi-layers. Konstrueret med præcision CVD -teknologi understøtter den 6 ”/8”/12 ”skiver, sikrer minimal termisk stress og tåler ekstreme temperaturer op til 1600 ° C.

Vores SIC -coatede planetariske følsomhed er en kernekomponent i den høje temperaturproces for fremstilling af halvleder. Dets design kombinerer grafitsubstrat med siliciumcarbidbelægning for at opnå omfattende optimering af termisk styringsydelse, kemisk stabilitet og mekanisk styrke.

Vores porøse SIC -keramiske plader er porøse keramiske materialer lavet af siliciumcarbid som hovedkomponent og behandlet ved specielle processer. De er uundværlige materialer i fremstilling af halvleder, kemisk dampaflejring (CVD) og andre processer.

Vores SIC-coatede tætningsring til epitaxy er en højtydende tætningskomponent baseret på grafit- eller carbon-carbonkompositter belagt med siliciumcarbid med høj rensning (SIC) ved kemisk dampaflejring (CVD), der kombinerer den termiske stabilitet af grafit med den ekstreme miljøresistens af SIC, og er designet til Semiconductor Epitaxial udstyr (f.eks

Vores høje renhedskvartsbåd er lavet af smeltet kvarts (SIO₂ -indhold ≥ 99,99%). Med sin fremragende modstand mod ekstreme miljøer, lav termisk ekspansionskoefficient og lang livscyklus er det blevet en uerstattelig nøgleforbrug i halvlederen og nye energisektoren.

Fokusring til ætsning er nøglekomponenten for at sikre procesnøjagtighed og stabilitet. Disse komponenter er nøjagtigt samlet i et vakuumkammer for at opnå ensartet bearbejdning af nanoskala -strukturer på skiveoverfladen gennem præcis kontrol af plasmafordeling, kanttemperatur og elektrisk feltuniformitet.