Sic coated wafer indehaver

VETEK Semiconductors SIC Coated Wafer Holder bruges normalt til at fikse og understøtte skiver under halvlederforarbejdning. Det er en højtydendeWafer CarrierMeget brugt i halvlederfremstilling. Ved at belægge et lag siliciumcarbid (sic) på overfladen afsubstrat, produktet kan effektivt forhindre underlaget i at korrosion og forbedre korrosionsbestandigheden og mekanisk styrke af skiverbæreren, hvilket sikrer stabilitet og præcisionskrav i behandlingsprocessen.

Sic coated wafer indehaverbruges normalt til at fikse og understøtte skiver under behandling af halvleder. Det er en højtydende Wafer Carrier, der er meget brugt i halvlederfremstilling. Ved at overtrække et lag afSiliciumcarbid (sic)På overfladen af ​​underlaget kan produktet effektivt forhindre underlaget i at korrosion og forbedre korrosionsmodstanden og den mekaniske styrke af denWafer Carrier, der sikrer stabiliteten og præcisionskravene i behandlingsprocessen.

Siliciumcarbid (SIC) har et smeltepunkt på ca. 2.730 ° C og har fremragende termisk ledningsevne på ca. 120 - 180 W/M · K. Denne egenskab kan hurtigt sprede varme i processer med høj temperatur og forhindre overophedning mellem skiven og bæreren. Derfor bruger SIC Coated Wafer Holder normalt siliciumcarbid (SIC) coated grafit som substrat.

Kombineret med den ekstremt høje hårdhed af SIC (Vickers -hårdhed på ca. 2.500 HV) kan siliciumcarbid (SIC) belægning afsat af CVD -processen danne en tæt og stærk beskyttelsesbelægning, hvilket i høj grad forbedrer slidmodstanden for SIC Coated Wafer Holder.

Vetek Semiconductors SIC Coated Wafer Holder er lavet af SIC -coated grafit og er en uundværlig nøglekomponent i moderne halvleder epitaxy -processer. Det kombinerer kløgtigt den fremragende termiske ledningsevne af grafit (termisk ledningsevne er ca. 100-400 W/M · K ved stuetemperatur) og mekanisk styrke, og den fremragende kemiske korrosionsbestandighed og termiske stabilitet i siliciumcarbid (smeltepunktet for SIC's smeltepunkt er ca. 2.730 ° C), der perfekt opfylder den strenge krav i dagens high-end-Semiconductor-fremstillingsmiljø.

Denne enkelt-vandrere designholder kan nøjagtigt kontrollereepitaksial procesParametre, der hjælper med at producere halvlederindretninger af høj kvalitet, højtydende halvleder. Dens unikke strukturelle design sikrer, at skiven håndteres med mest omhu og præcision gennem hele processen og derved sikrer den fremragende kvalitet af det epitaksiale lag og forbedrer ydeevnen for det endelige halvlederprodukt.

Som Kinas førendeSic coatedWafer Holder -producent og leder, Vetek Semiconductor kan levere tilpassede produkter og tekniske tjenester i henhold til dit udstyr og procesbehov.Vi håber inderligt at være din langsigtede partner i Kina.

SEM -data fra CVD Sic Film Krystalstruktur

Grundlæggende fysiske egenskaber ved CVD SIC -belægning

Vetek Semiconductor Sic Coated Wafer Holder Productions butikker ：