Sic bruserhoved

Vetek Semiconductor leverer avanceret SIC -brusebad til halvlederindustrien. Siliciumcarbidmaterialer har en unik kombination af fremragende termiske, elektriske og kemiske egenskaber, hvilket gør dem ideelle til applikationer i halvlederindustrien, hvor der kræves højtydende materialer. Vetek Semiconductor har længe akkumuleret erfaring inden for CVD -solid SIC -teknologi. Vetek Semiconductors revolutionære teknologi muliggør produktion af SIC-brusehoved, en ultrahøj renhed siliciumcarbidmateriale skabt gennem processen med kemisk dampaflejring.

SIC -brusehovedet er en afgørende komponent i fremstilling af halvleder, specifikt designet til MOCVD -systemer, siliciumpitaxy ogSicEpitaxy -processer. Lavet af robustSolid siliciumcarbid (sic), kan denne komponent modstå de ekstreme betingelser for plasmaforarbejdning og applikationer med høj temperatur.

Siliciumcarbid (sic)er kendt for sin høje termiske ledningsevne, kemisk korrosionsmodstand og enestående mekanisk styrke, hvilket gør det til et ideelt materiale til bulk -sic -komponenter som SIC -brusehovedet. Gasbrushovedet sikrer endda distribution af procesgasser over skiveoverfladen, hvilket er vigtigt for at producere epitaksiale lag af høj kvalitet. Fokusringe og kantringe, ofte fremstillet af CVD-SIC, opretholder ensartet plasmafordeling og beskytter kammeret mod kontaminering, hvilket forbedrer effektiviteten og udbyttet af epitaksial vækst.

Med sin nøjagtige gasstrømningskontrol og fremragende materialegenskaber er SIC -brusehovedet en nøglekomponent i moderne halvlederbehandling, der understøtter avancerede applikationer i siliciumpitaxy og SIC -epitaxy.

Vetek Semiconductor tilbyder en sintret siliciumcarbidhalvlederhoved med lav resistivitet. Vi har kapacitet til brugerdefineret ingeniør og leveringAvancerede keramiske materialerBrug af en række unikke kapaciteter.