Kemisk dampaflejringsproces Fast Sic Edge Ring

CVD -proces Solid Sic Edge Ring:

● Materialee: Fokuseringsringen er fremstillet af fast SIC, en høj renhed og højtydende keramisk materiale. Det fremstilles ved kemisk dampaflejring. Det faste SIC-materiale giver enestående holdbarhed, høj temperaturresistens og fremragende mekaniske egenskaber.

●  Fordele: CVD SIC-ringen giver enestående termisk stabilitet og opretholder dens strukturelle integritet selv under høje temperaturforhold, der er stødt på i tør ætseprocesser. Dens høje hårdhed sikrer modstand mod mekanisk stress og slid, hvilket fører til udvidet levetid. Desuden udviser solid SIC kemisk inertitet, beskytter den mod korrosion og opretholder dens ydeevne over tid.

CVD SIC -belægning:

●  Materialee: CVD SIC -belægning er en tynd filmaflejring af SIC ved hjælp af kemisk dampaflejring (CVD) teknikker. Belægningen påføres på et substratmateriale, såsom grafit eller silicium, for at tilvejebringe SIC -egenskaber til overfladen.

●  Sammenligning: Mens CVD SIC -overtræk tilbyder nogle fordele, såsom konform afsætning på komplekse former og indstillelige filmegenskaber, kan de muligvis ikke matche robustheden og ydeevnen for solid SIC. Belægningstykkelsen, krystallinsk struktur og overfladefremhed kan variere baseret på CVD -procesparametrene, hvilket potentielt påvirker belægningens holdbarhed og samlede ydelse.

Sammenfattende er Vetek Semiconductor Solid Sic -fokuseringsring et usædvanligt valg til tør ætse -applikationer. Dets faste SIC-materiale sikrer høj temperaturresistens, fremragende hårdhed og kemisk inertitet, hvilket gør det til en pålidelig og langvarig løsning. Mens CVD -sic -belægning giver fleksibilitet i afsætning, udmærker CVD SIC -ring sig med at tilvejebringe uovertruffen holdbarhed og ydeevne, der kræves for at kræve tør ætseprocesser.

Fysiske egenskaber ved faste SIC