Webmenu

Produktsøgning

Sprog

Produkter

MOCVD teknologi

VeTek Semiconductor har fordele og erfaring med MOCVD Technology reservedele.

MOCVD, det fulde navn på Metal-Organic Chemical Vapor Deposition (metal-organisk Chemical Vapor Deposition), kan også kaldes metal-organisk dampfase-epitaksi. Organometalliske forbindelser er en klasse af forbindelser med metal-carbon-bindinger. Disse forbindelser indeholder mindst én kemisk binding mellem et metal og et carbonatom. Metalorganiske forbindelser bruges ofte som forstadier og kan danne tynde film eller nanostrukturer på substratet gennem forskellige aflejringsteknikker.

Metalorganisk kemisk dampaflejring (MOCVD-teknologi) er en almindelig epitaksial vækstteknologi, MOCVD-teknologi er meget udbredt til fremstilling af halvlederlasere og lysdioder. Især ved fremstilling af lysdioder er MOCVD en nøgleteknologi til produktion af galliumnitrid (GaN) og relaterede materialer.

Der er to hovedformer for epitaksi: Liquid Phase Epitaxy (LPE) og Vapor Phase Epitaxy (VPE). Gasfaseepitaksi kan yderligere opdeles i metal-organisk kemisk dampaflejring (MOCVD) og molekylær stråleepitaksi (MBE).

Udenlandske udstyrsproducenter er hovedsageligt repræsenteret af Aixtron og Veeco. MOCVD-systemet er et af nøgleudstyret til fremstilling af lasere, lysdioder, fotoelektriske komponenter, strøm, RF-enheder og solceller.

Hovedtræk ved MOCVD teknologi reservedele fremstillet af vores virksomhed:

1) Høj densitet og fuld indkapsling: grafitbasen som helhed er i et højtemperatur- og korrosivt arbejdsmiljø, overfladen skal være fuldt indpakket, og belægningen skal have god fortætning for at spille en god beskyttende rolle.

2) God overfladefladhed: Fordi grafitbasen, der anvendes til enkeltkrystalvækst, kræver en meget høj overfladefladhed, bør den oprindelige fladhed af basen bibeholdes, efter at belægningen er forberedt, det vil sige, at belægningslaget skal være ensartet.

3) God bindingsstyrke: Reducer forskellen i termisk udvidelseskoefficient mellem grafitbasen og belægningsmaterialet, hvilket effektivt kan forbedre bindingsstyrken mellem de to, og belægningen er ikke let at knække efter at have oplevet høj og lav temperatur varme cyklus.

4) Høj termisk ledningsevne: Spånvækst af høj kvalitet kræver, at grafitbasen giver hurtig og ensartet varme, så belægningsmaterialet skal have en høj varmeledningsevne.

5) Højt smeltepunkt, høj temperatur oxidationsbestandighed, korrosionsbestandighed: belægningen skal være i stand til at arbejde stabilt i høj temperatur og korrosivt arbejdsmiljø.



Placer 4 tommer substrat
Blågrøn epitaksi til dyrkning af LED
Anbragt i reaktionskammeret
Direkte kontakt med waferen Placer 4 tommer substrat
Bruges til at dyrke UV LED epitaksial film
Anbragt i reaktionskammeret
Direkte kontakt med waferen Veeco K868/Veeco K700 maskine
Hvid LED-epitaksi/Blå-grøn LED-epitaksi Anvendes i VEECO-udstyr
Til MOCVD-epitaxi
SiC Coating Susceptor Aixtron TS udstyr
Dyb ultraviolet epitaksi
2-tommer substrat Veeco udstyr
Rød-gul LED-epitaxi
4-tommer wafer-substrat TaC Coated Susceptor
(SiC Epi/UV LED-modtager) SiC Coated Susceptor
(ALD/ Si Epi/ LED MOCVD Susceptor)


View as  
 
Sic coating cover segmenter

Sic coating cover segmenter

VTech Semiconductor er forpligtet til udvikling og kommercialisering af CVD SIC -coatede dele til Aixtron -reaktorer. Som et eksempel er vores sic coating cover -segmenter omhyggeligt behandlet for at producere en tæt CVD -sic -belægning med fremragende korrosionsbestandighed, kemisk stabilitet, velkommen til at diskutere applikationsscenarier med os.
Se mere >> Send forespørgsel >>
MOCVD -support

MOCVD -support

MOCVD -følger er karakteristisk med planetarisk disk og profesional for sin stabile præstation i epitaxy. Vetek Semiconductor har rig erfaring med bearbejdning og CVD -sic -belægning af dette produkt, velkommen til at kommunikere med os om virkelige sager.
Se mere >> Send forespørgsel >>
MOCVD -epitaksial følsomhed for 4

MOCVD -epitaksial følsomhed for 4 "Wafer

MOCVD-epitaksial følsomhed for 4 "Wafer er designet til at vokse 4" epitaksiale lag. Vetek Semiconductor er en professionel producent og leverandør, der er dedikeret til at tilvejebringe MOCVD-epitaksialfølsomhed i høj kvalitet for 4 "Wafer. Med skræddersyet grafitmateriale og SIC-belægningsproces. Vi er i stand til at levere ekspert og effektive løsninger til vores klienter. Du er velkomne til at kommunikere med os.
Se mere >> Send forespørgsel >>
Halvleder følger block sic coated

Halvleder følger block sic coated

Vetek Semiconductors Semiconductor Sceptor Block Sic Coated er en meget pålidelig og holdbar enhed. Det er designet til at modstå høje temperaturer og hårde kemiske miljøer, mens den opretholder stabil ydeevne og en lang levetid. Med sine fremragende procesfunktioner reducerer Semiconductor -følgerblokken SIC -coatet hyppigheden af ​​udskiftning og vedligeholdelse og forbedrer således produktionseffektiviteten. Vi ser frem til muligheden for at samarbejde med dig. Velkommen til at konsultere når som helst.
Se mere >> Send forespørgsel >>
Sic coated mocvd -følger

Sic coated mocvd -følger

Veteksemicons sic coatede MOCVD -følger er en enhed med fremragende proces, holdbarhed og pålidelighed. De kan modstå høj temperatur og kemiske miljøer, opretholde stabil ydeevne og lang levetid og derved reducere hyppigheden af ​​udskiftning og vedligeholdelse og forbedre produktionseffektiviteten. Vores MOCVD -epitaksiale følsomhed er kendt for sin høje densitet, fremragende fladhed og fremragende termisk kontrol, hvilket gør det til det foretrukne udstyr i barske fremstillingsmiljøer. Ser frem til at samarbejde med dig. Velkommen til at konsultere når som helst.
Se mere >> Send forespørgsel >>
Siliciumbaseret GaN-epitaksial følsomhed

Siliciumbaseret GaN-epitaksial følsomhed

Den siliciumbaserede GaN-epitaksiale følsomhed er den kernekomponent, der kræves til gan-epitaksial produktion. Veteksemicon siliciumbaseret GaN-epitaksial følsomhed er specielt designet til siliciumbaseret GaN-epitaksialreaktorsystem med fordele såsom høj renhed, fremragende høj temperaturresistens og korrosionsbestandighed. Velkommen din yderligere konsultation.
Se mere >> Send forespørgsel >>
Som professionel MOCVD teknologi producent og leverandør i Kina har vi vores egen fabrik. Uanset om du har brug for tilpassede tjenester til at imødekomme de specifikke behov i din region eller ønsker at købe avancerede og holdbare MOCVD teknologi lavet i Kina, kan du efterlade os en besked.
Nyhedsanbefalinger
Hvorfor skiller 3c-Sic sig ud blandt mange SIC-polymorfer? - Vetek Semiconductor
Hvorfor skiller 3c-Sic sig ud blandt mange SIC-polymorfer? - Vetek SemiconductorSe mere >>
Anvendelse af kulstofbaserede termiske feltmaterialer i siliciumcarbid krystalvækst
Anvendelse af kulstofbaserede termiske feltmaterialer i siliciumcarbid krystalvækstSe mere >>
Hvad er SIC keramik?
Hvad er SIC keramik?Se mere >>
Tantalum carbidteknologi gennembrud, sic epitaksial forurening reduceret med 75%?
Tantalum carbidteknologi gennembrud, sic epitaksial forurening reduceret med 75%?Se mere >>
Hvad er forskellen mellem siliciumcarbid (SIC) og gallium nitrid (GAN) applikationer? - Vetek Semiconductor
Hvad er forskellen mellem siliciumcarbid (SIC) og gallium nitrid (GAN) applikationer? - Vetek SemiconductorSe mere >>
Anvendelse og forskning af siliciumcarbidkeramik inden for fotovoltaik - Vetek Semiconductor
Anvendelse og forskning af siliciumcarbidkeramik inden for fotovoltaik - Vetek SemiconductorSe mere >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept