MOCVD teknologi

Veteksemicons sic coatede MOCVD -følger er en enhed med fremragende proces, holdbarhed og pålidelighed. De kan modstå høj temperatur og kemiske miljøer, opretholde stabil ydeevne og lang levetid og derved reducere hyppigheden af ​​udskiftning og vedligeholdelse og forbedre produktionseffektiviteten. Vores MOCVD -epitaksiale følsomhed er kendt for sin høje densitet, fremragende fladhed og fremragende termisk kontrol, hvilket gør det til det foretrukne udstyr i barske fremstillingsmiljøer. Ser frem til at samarbejde med dig. Velkommen til at konsultere når som helst.

Den siliciumbaserede GaN epitaksiale susceptor er den kernekomponent, der kræves til GaN epitaksial produktion. Veteksemicon silicium-baseret GaN epitaxial Susceptor er specielt designet til silicium-baseret GaN epitaxial reaktorsystem, med fordele såsom høj renhed, fremragende høj temperaturbestandighed og korrosionsbestandighed. Velkommen til din videre konsultation.