Velkommen kunder til at besøge Veteksemicons SIC -belægning/ TAC -belægning og Epitaxy Process Factory

Kunder besøger fabrikken: Fremme et nyt kapitel af samarbejde

For nylig er vi meget beærede over at modtage vigtige kunder fra mange regioner over hele verden for at besøge Vetek Semiconductors fabrik i Kina. Dette besøg giver ikke kun kunder mulighed for at få en dybdegående forståelse af vores teknologiske innovation og produktionsstyrke inden for områderneHalvlederpitaxy -procesog halvlederbelægning, men også uddyber vores kooperative forhold til kunderne.

Veteksemicon -kunder inspicerer detaljerne om tantalcarbidbelagte epitaksiale følelser

Fabriksbesøg: dybdegående forståelse af produktionsprocessen

Under besøget viste kunderne stor interesse for voresSiliciumcarbidbelægningogTantalcarbidbelægningProduktionslinjer. Vores F & U -team introducerede de tekniske fordele ved produkterne og det strenge kvalitetskontrolsystem i detaljer. Som en førende producent af siliciumcarbidbelægning og tantalcarbidbelægning er vi altid forpligtet til at anvende den mest avancerede teknologi til produktdesign og fremstilling for at sikre, at enhver komponent opfylder internationale standarder og kan imødekomme behovene hos forskellige kunder.

Teknologi Display: Ledende retning af industriens udvikling

Under besøget demonstrerede vores firma det seneste udvikledeEpitaksial procesløsning, der dækker den komplette proces fra design, produktion til kvalitetsinspektion. Vores innovationsevne er blevet meget anerkendt af kunderne, og de er fulde af forventninger til fremtidig samarbejde. Især inden for halvlederbelægningsapplikationer fremmer Vetek Semiconductor kontinuerligt udviklingen af ​​industrien med sine unikke tekniske fordele og markedsindsigt.

Fremtidige udsigter: Uddyb samarbejdet og Win-Win Future

Dette kundebesøg er ikke kun en anerkendelse af vores produktionsstyrke, men lægger også et solidt fundament for det langsigtede samarbejde mellem de to parter i fremtiden. Vi mener, at vi med begge parters fælles indsats vil opnå mere frugtbare resultater inden for områdethalvlederpitaxy -procesog halvlederbelægning i fremtiden.