VEECO MOCVD varmelegeme

VeTeksemis VEECO MOCVD-varmelegeme er lavet af højrent grafitmateriale med urenhedsindhold strengt kontrolleret under 5 ppm, og belagt med ultra-high purity siliciumcarbid (SiC) med en renhed på mere end 99,99995% gennem enKemisk dampaflejring (CVD) -proces. Denne kombination af materialer giver varmeren en række nøgleegenskaber, der sikrer dens fremragende ydeevne imetal organisk kemisk dampaflejring (MOCVD)behandle.

En af de fremragende funktioner i Veeco MOCVD -varmeapparatet er dens ekstraordinære kemiske renhed. Grafitkernen med høj renhed reducerer den potentielle introduktion af forurenende stoffer i høje temperaturprocessen i høj grad, hvilket sikrer en ultra-rene filmaflejringsproces. DeCVD SIC -belægningTilbyder yderligere beskyttelse af varmelegemet og danner en stærk barriere for at forhindre kemiske reaktioner, der kan skade filmkvaliteten. Denne uovertrufne renhed er vigtig for fremstilling af højtydende, pålidelige halvlederenheder.

Samtidig udviser varmeren ekstrem høj termisk stabilitet og effektivitet. SiC har et højt smeltepunkt og fremragende varmeledningsevne, hvilket gør det muligt for varmelegemet effektivt at håndtere og lede varme. Dette sikrer ensartet opvarmning på tværs af substratet, hvilket igen hjælper med at opnå ensartet filmaflejring og reducere defekter forårsaget af termiske gradienter. En sådan termisk effektivitet er særlig vigtig for præcisionsfremstilling.

Veeco MOCVD -varmeapparatet udmærker sig også i elektrisk ydeevne. Dens grafitkerne med høj renhed har fremragende elektrisk ledningsevne, hvilket giver varmeapparatet mulighed for at håndtere krav til elektriske belastning. Denne stabile elektriske ydeevne giver varmeapparatet mulighed for at opretholde præcis temperaturstyring og afsætningshastighed under høje belastningsbetingelser, hvilket er kritisk for at sikre ensartede procesbetingelser og forbedre halvlederproduktionseffektiviteten.

Varmerens overfladedesign er omhyggeligt optimeret til at have en høj substratemissivitet, hvilket markant forbedrer effektiviteten af ​​strålevarmeoverførsel. Evnen til at opvarme jævnt er en nøglefaktor for at sikre ensartet filmaflejringstykkelse og karakteristika. Overfladedesignet med høj emissivitet forbedrer også varmerens overordnede termiske effektivitet og reducerer derved energiforbruget og sænker driftsomkostningerne.

Med hensyn til holdbarhed udviser Veteksemis Veeco MOCVD -varmeapparat fremragende korrosionsbestandighed, oxidationsmodstand og mekanisk styrke. CVD SIC -belægning giver en solid barriere for de ætsende gasser og kemikalier, der er almindelige i MOCVD -processer, hvorved udstyrets levetid forlænges og reducerer vedligeholdelsesbehov og udskiftningsomkostninger. Dens oxidationsmodstand sikrer, at varmeapparatet forbliver stabil ved høje temperaturer uden ydelsesnedbrydning, hvilket sikrer langvarig stabilitet.

Derudover muliggør den høje mekaniske styrke af Veteksemis MOCVD -varmeapparat, at den kan modstå de fysiske spændinger, der genereres under termisk cykling og substrathåndtering. Dens robusthed reducerer risikoen for mekanisk svigt og sikrer pålidelig drift af udstyret under barske procesforhold.

Som en avanceret producent og leverandør af Veeco MOCVD-varmeprodukter leverer Veteksemi også en række høje kvalitetsvarmerprodukter, såsomTAC -belægningsvarmer, siliciumcarbid keramisk belægning grafitvarmer, Siliciumcarbid keramisk belægningsvarmerosv. Vetek Semiconductor er forpligtet til at levere avanceret og tilpasselig teknologi og produktløsninger til halvlederindustrien. Vi håber inderligt at være din langsigtede partner i Kina.