Halvleder keramisk dyse

Halvleder keramisk dyse spiller en vigtig rolle iHDP-CVD-proces, bruges til præcist at kontrollere gasstrømmen og sikreFilmaflejring af høj kvalitet. Keramisk dysespray er præcist konstrueret til at sikre ensartede og kontrollerbare gasstrømningshastigheder, hvilket minimerer mulig turbulens, når gassen kommer ind i reaktionskammeret.

Tekniske specifikationer:

1.Materialesammensætning:

Vetek Semiconductor Ceramic Sand Blasting dyse er typisk lavet af halvlederkeramik såsom aluminiumoxid (AL2O3),Siliciumcarbid (sic)eller zirconiumoxid (ZRO2), disse materialer har fremragende egenskaber:

    • høj termisk stabilitet (kan modstå temperaturer over 1000 ℃)

    • modstand mod korrosion af reaktive gasser, der anvendes iCVD -processer(såsom silan, ammoniak)

    • modstand mod kontinuerlig plasmaeksponering.

2. Strukturelt design:

    • Mundingsstørrelse: Åbningen af ​​den keramiske semiconductor-dyse er videnskabeligt designet til at muliggøre præcis kontrol af gasstrømmen, hvilket igen påvirker ensartetheden og tykkelsen af ​​filmen.

    • Vinkler og geometrier: Præcis designet til at sikre ensartet gasfordeling over substratet, hvilket minimerer defekter i det aflejrede lag.

I halvlederindustrien spiller Semiconductor keramisk blæstdyse en nøglerolle primært i HDP-CVD-processen. De bruges også til at afsætte tynde film til produktion af mikroelektronik, hvilket sikrer højkvalitets overfladebelægninger, der er ensartede og fri for forurenende stoffer.

VeTeK Semiconductor Keramiske dysebutikker: