Webmenu

Produktsøgning

Sprog

Produkter

Tantalcarbid belægning

VeTek semiconductor er en førende producent af tantalkarbidbelægningsmaterialer til halvlederindustrien. Vores vigtigste produkttilbud omfatter CVD-tantalcarbid-belægningsdele, sintrede TaC-belægningsdele til SiC-krystalvækst eller halvlederepitaksiprocessen. Bestået ISO9001, VeTek Semiconductor har god kontrol med kvaliteten. VeTek Semiconductor er dedikeret til at blive innovator i tantalkarbidbelægningsindustrien gennem løbende forskning og udvikling af iterative teknologier.


De vigtigste produkter erTaC Coated Guide Ring, CVD TaC-belagt styrering med tre kronblade, Tantalcarbid TaC Coated Halfmoon, CVD TaC belægning planetarisk SiC epitaksial susceptor, Tantalcarbid belægningsring, Tantalcarbid belagt porøs grafit, TaC Coating Rotations Susceptor, Tantalcarbid ring, TaC Coating Rotationsplade, TaC coated wafer susceptor, TaC-belagt deflektorring, CVD TaC Coating Cover, TaC Coated Chuckosv., renheden er under 5 ppm, kan opfylde kundernes krav.


TaC-belægningsgrafit skabes ved at belægge overfladen af ​​et højrent grafitsubstrat med et fint lag tantalcarbid ved en proprietær kemisk dampaflejringsproces (CVD). Fordelen er vist på billedet nedenfor:


Excellent properties of TaC coating graphite


Tantalcarbid-belægningen (TaC) har fået opmærksomhed på grund af dets høje smeltepunkt på op til 3880°C, fremragende mekanisk styrke, hårdhed og modstandsdygtighed over for termiske stød, hvilket gør det til et attraktivt alternativ til sammensatte halvlederepitaksiprocesser med højere temperaturkrav, såsom Aixtron MOCVD-system og LPE SiC-epitaksiproces. Det har også en bred anvendelse i PVT-metoden SiC krystalvækstproces.


Nøglefunktioner:

 ●Temperaturstabilitet

 ●Ultra høj renhed

 ●Modstandsdygtighed over for H2, NH3, SiH4, Si

 ●Modstandsdygtighed over for termisk materiale

 ●Stærk vedhæftning til grafit

 ●Konform belægningsdækning

 ● Størrelse op til 750 mm diameter (den eneste producent i Kina når denne størrelse)


Ansøgninger:

 ●Wafer bærer

 ● Induktiv varmemodtager

 ● Resistivt varmeelement

 ●Satellit disk

 ●Brusehoved

 ●Styrering

 ●LED Epi modtager

 ●Indsprøjtningsdyse

 ●Maskeringsring

 ● Varmeskjold


Tantalcarbid (TaC) belægning på et mikroskopisk tværsnit:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


Parameter for VeTek Semiconductor Tantalum Carbide Coating:

Fysiske egenskaber ved TaC-belægning
Tæthed 14,3 (g/cm³)
Specifik emissionsevne 0.3
Termisk udvidelseskoefficient 6,3 10-6/K
Hårdhed (HK) 2000 HK
Modstand 1×10-5Ohm*cm
Termisk stabilitet <2500℃
Grafitstørrelsen ændres -10~-20um
Belægningstykkelse ≥20um typisk værdi (35um±10um)


TaC coating EDX data：

EDX data of TaC coating


TaC coating krystal struktur data:

Element Atomprocent
Pt. 1 Pt. 2 Pt. 3 Gennemsnit
C K 52.10 57.41 52.37 53.96
M 47.90 42.59 47.63 46.04


View as  
 
TaC Coating Rotations Susceptor

TaC Coating Rotations Susceptor

Som en professionel producent, innovator og leder af TaC Coating Rotation Susceptor-produkter i Kina. VeTek Semiconductor TaC Coating Rotation Susceptor er normalt installeret i kemisk dampaflejring (CVD) og molekylær stråleepitaksi (MBE) udstyr til at understøtte og rotere wafere for at sikre ensartet materialeaflejring og effektiv reaktion. Det er en nøglekomponent i halvlederbehandling. Velkommen til din videre konsultation.
Se mere >> Send forespørgsel >>
CVD TaC belægningsdigel

CVD TaC belægningsdigel

VeTek Semiconductor er en professionel producent og leder af CVD TaC Coating Crucible-produkter i Kina. CVD TaC Coating Crucible er baseret på tantal carbon (TaC) coating. Tantal-carbonbelægningen er jævnt dækket på overfladen af ​​digelen gennem kemisk dampaflejring (CVD) proces for at forbedre dens varmebestandighed og korrosionsbestandighed. Det er et materialeværktøj specielt brugt i ekstreme højtemperaturmiljøer. Velkommen til din videre konsultation.
Se mere >> Send forespørgsel >>
CVD TAC Coating Wafer Carrier

CVD TAC Coating Wafer Carrier

Som en professionel CVD TAC Coating Wafer Carrier -produktproducent og fabrik i Kina, er Vetek Semiconductor CVD TAC Coating Wafer Carrier et skive, der bærer værktøj, der er specielt designet til høj temperatur og ætsende miljøer i halvlederproduktionen. Og CVD TAC-belægnings wafer-bærer har høj mekanisk styrke, fremragende korrosionsbestandighed og termisk stabilitet, hvilket giver den nødvendige garanti for fremstilling af halvlederenheder af høj kvalitet. Dine yderligere forespørgsler er velkomne.
Se mere >> Send forespørgsel >>
TAC -belægningsvarmer

TAC -belægningsvarmer

Vetek Semiconductor TAC -belægningsvarmer har et ekstremt højt smeltepunkt (ca. 3880 ° C). Det høje smeltepunkt gør det muligt for det at fungere ved ekstremt høje temperaturer, især i væksten af ​​galliumnitrid (GAN) epitaksiale lag i metal -organisk kemisk dampaflejring (MOCVD) -proces. Vetek Semiconductor er forpligtet til at give kunderne tilpassede produktløsninger. Vi ser frem til at høre fra dig.
Se mere >> Send forespørgsel >>
CVD TAC belægning

CVD TAC belægning

VeTek Semiconductor er Kinas førende producent af CVD TAC Coating produkter. I mange år har vi fokuseret på forskellige CVD TAC Coating produkter som CVD TaC coating cover, CVD TaC Coating Ring. VeTek Semiconductor understøtter kundetilpassede produkttjenester og tilfredsstillende produktpriser, og ser frem til din videre konsultation.
Se mere >> Send forespørgsel >>
Tac coated chuck

Tac coated chuck

Med sin høje temperaturresistens, kemisk inertitet og fremragende ydeevne er Vetek Semiconductors TAC -coatede chucks designet til halvlederovne. Vi tror, ​​at vores produkter kan bringe dig avanceret teknologi og kvalitetsproduktløsninger.
Se mere >> Send forespørgsel >>
Som professionel Tantalcarbid belægning producent og leverandør i Kina har vi vores egen fabrik. Uanset om du har brug for tilpassede tjenester til at imødekomme de specifikke behov i din region eller ønsker at købe avancerede og holdbare Tantalcarbid belægning lavet i Kina, kan du efterlade os en besked.
Nyhedsanbefalinger
Hvor porøs grafit forbedrer siliciumcarbidkrystallvækst?
Hvor porøs grafit forbedrer siliciumcarbidkrystallvækst?Se mere >>
Anvendelse af kulstofbaserede termiske feltmaterialer i siliciumcarbid krystalvækst
Anvendelse af kulstofbaserede termiske feltmaterialer i siliciumcarbid krystalvækstSe mere >>
Principper og teknologi til fysisk dampaflejringsbelægning (1/2) - Vetek Semiconductor
Principper og teknologi til fysisk dampaflejringsbelægning (1/2) - Vetek SemiconductorSe mere >>
Porøst tantalcarbid: En ny generation af materialer til SiC-krystalvækst
Porøst tantalcarbid: En ny generation af materialer til SiC-krystalvækstSe mere >>
Hvad er porøs grafit? - Vetek Semiconductor
Hvad er porøs grafit? - Vetek SemiconductorSe mere >>
Termisk feltdesign til sic enkelt krystalvækst
Termisk feltdesign til sic enkelt krystalvækstSe mere >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept